To enable unique nanoelectronic applications;
1) The design and synthesis of engineered thin film for specific functions are required. Composites, nanolamellar or randomly mixed heterogeneous materials can create artificial materials with novel properties to overcome the limitation of conventional CMOS technology. New computing memory and transistor for the next generation are under investigation.
2) Atomic layer deposition (ALD) process has an advantage for very thin and conformal film growth. ALD process including surface treatments can modify the hydrophobic surface of low-dimensional nanomaterials for the fluent nucleation of the films. Additionally, ALD-grown film can act as a good gas barrier and provide extremely enhanced mechanical properties. Film growth behaviors and electrical/chemical/mechanical/optical properties of ALD-coated nanomaterials can be characterized. Inter-laboratory, inter-university, and interdisciplinary research and collaborations are on going now.
If you are interested in those researches and activities, please come and join us and do make it matter!
1) The design and synthesis of engineered thin film for specific functions are required. Composites, nanolamellar or randomly mixed heterogeneous materials can create artificial materials with novel properties to overcome the limitation of conventional CMOS technology. New computing memory and transistor for the next generation are under investigation.
2) Atomic layer deposition (ALD) process has an advantage for very thin and conformal film growth. ALD process including surface treatments can modify the hydrophobic surface of low-dimensional nanomaterials for the fluent nucleation of the films. Additionally, ALD-grown film can act as a good gas barrier and provide extremely enhanced mechanical properties. Film growth behaviors and electrical/chemical/mechanical/optical properties of ALD-coated nanomaterials can be characterized. Inter-laboratory, inter-university, and interdisciplinary research and collaborations are on going now.
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News
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Advanced Electronic Materials 표지 논문 게재 2021.06.25 서울과학기술대학교(총장 이동훈, 이하 서울과기대) 신소재공학과 나노전자소자연구실(지도교수: 최병준)에서는 원자층 증착법(Atomic layer deposition)이라는 최신 반도체 공정을 이용해, 사물인터넷(Internet of Things) 센서에 적용할 수 있는 신개념의 인공신경망(Artificial Neural Networks)용 시냅스 소자를 제작하여 95% 이상의 높은 패턴 인식률을 기록해, 차세대 지능형 반도체 소자로써의 활용 가능성을 증명했다. 본 연구에서는 원자층 증착법을 이용해 반도체 소자 내 물리적 계면(interface)을 선택적으로 제어하게 되어, 다이오드와 메모리 특성을 모두 갖는 자가정류형 저항변화소자를 시냅스 소자로 제작하였다. 소자 구조가 간단하고 저전력 동작이 가능하여, 향후 인간의 뇌를 모방한 시냅스 소자로 응용할 수 있는 가능성을 입증했다. 기존에는 사물인터넷이나 센서를 통해 주변에서 얻게 되는 많은 양의 정보들이 선별 과정 없이 데이터센터의 클라우드 서버로 전송이 되면서 많은 에너지를 소모하게 되는데, 본 연구에서 개발한 시냅스 소자를 사물인터넷 기기에 연결하여 사용하게 되면, 시냅스 소자의 패턴 인식 기능을 통해 선별된 데이터만 전송하기 때문에, 데이터의 수집과 처리에 드는 에너지를 크게 줄일 수 있다. 따라서 사물인터넷 또는 이미지 센서 등에 이 기술을 적용하게 되면 향후 자율주행 자동차나 스마트 센서에서 패턴 인식을 통한 정보 선별이 가능하기 때문에, 기하급수적으로 늘어나고 있는 클라우드 서버의 부담 또한 크게 줄일 수 있다. 본 연구는 삼성전자 미래기술육성센터의 지원을 받아 수행되었으며, 최석, 김용 (이상 공동 제1저자), 정원희 연구원을 포함한 최병준 교수팀과 국민대학교 전자공학과 민경식 교수팀의 공동 연구를 통해 수행 되었다. 이 연구개발 결과는 독일 Wiley에서 매달 온라인 발간하는 전자 소자 및 소재 분야 권위지인 Advanced Electronic Materials 저널의 6월호 표지 논문으로 출판되었다.(관련링크: https://onlinelibrary.wiley.com/toc/2199160x/2021/7/6)
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August 25, 2022 2022.08.25 -주환, 학부과정 졸업
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October 26-29, 2021 2022.08.11 - ISNNM 2021 (17th International Symposium on Novel and Nano Materials)- 명준: Best Presentation Award
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February 24, 2021 2021.05.05 -희주, 석사과정 졸업-명준, 하영, 학부과정 졸업
