1. 연구분야소개

    우리 연구실은 박막재료 및 박막공정에 관한 연구를 토대로, 산화물 저항변화 메모리, III족 질화물 트랜지스터와 같은 반도체 공정 및 소자에 대한 연구를 진행하고 있습니다. 또한 나노 미터 단위의 두께 조절이 가능한 원자층 증착법에 대한 연구를 바탕으로, 반도체형 가스 센서, 나노 소재의 기능성 코팅과 같은 분야로 연구 영역을 확대해 나가고 있습니다.


  2. 수행 프로젝트




A. Memristor Crossbar Array by ALD









B. 
III-Nitride ALD








C.
Powder ALD










3. 연구 장비 및 안전 관리

A. ALD system (CN-1, traveling-wave type for 6")



B. Powder ALD (CN-1, Atomic shell)



C. Sputter system (Woosin CryoVac co. Ltd., SPS-R3)



D. Probe Station (MS-Tech) &  Measurement system



E. Electric furnace (EMS-Tech)



F. Function generator (Tektronix, AFG 3102)



G. Hot chuck (MS-Tech, MST-1000H)



H. Switching box (HP-5250A)



I. Ellipsometer (Film Sense, FS-1)



J. Gas supply system (Gaon Tech, Gaon-VGP-A11 & Gaon-VP-M22)



K. Gas scrubber for ALD system (Gaon Tech, ST-DS-100S)